洁净厂房中的气体管道是指气体压力小于等于0.8MPa的氢气、氧气、氮气、压缩空气、燃气等一般气体和高纯气体管道及真空管道，其具体的安装要求可参考《洁净室施工及验收规范》（JGJ71-1990）的有关规定。

高纯气体是指气体纯度大于等于99.9995％，含水量小于5×10-4％的气体。

洁净厂房广泛用于电子、生物医药、精细化工、精密机械、食品、化妆品等产品的生产中，不同产品的生产过程中，对所用高纯度气体的品种、纯度，以及气体中允许的杂质浓度或气体的品质要求差异很大。例如半导体工业，所用气体品种多，要求特别严格。这里对半导体工业的高纯气体及其气体管道做一简单介绍。

一、半导体集成电路制造用的高纯气体品种

1.按集成电路制造使用分类

（1）普通气体（又称大宗气体）。有H2，N2，O2，Ar，He等。

（2）特种气体（掺杂、外延、离子注入、刻蚀等），如Si，Sio，Cr，Al，Mo，W等

2.按使用时的危险性分类

（1）可燃、自燃、易燃气体。如H2，CH4，H2S，NH3等。

（2）有毒气体。半导体工业所用气体大多数有毒对人体有害，如PH3，ASH3，B2H6等。

（3）助燃气体。此类气体自身不燃，但与可燃物可燃气体接触时有助燃的作用，如O2，N2O，F2，HF等。

（4）窒息性气体。此类气体性质稳定，不燃，无毒但当空气中氧含量降低到18％时，使人因缺氧而觉呼吸困难，如N2，Ar，CO2，He等。

（5）腐蚀性气体。此类气体遇水即呈腐蚀性，但在干燥状态时不易腐蚀金属，如HCl，PCl3，POCl3，HF等。

二、高纯气体的“三度”

所谓的高纯气体“三度”，包括纯度、干燥度和洁净度。

1.气体纯度

气体纯度表示气体中杂质气体的含量，通常用百分数表示，如99.9999％，也用杂质气体的体积比表示。

2.干燥度

干燥度表示气体中微量水分的含量，或称为含湿量，通常用露点表示，如常压露点一

70℃。

3.洁净度

洁净度表示气体中含有污染物粒子的数量，粒径以μm为单位，数量为pc/m3对压缩空气也用不可避免的固体残留物的多少表示，单位为mg/m3，其中包括了含油量。